中国创新微芯片制造技术 或可超越美国制裁

中国科研人员创新微芯片制造技术，或可超越美国制裁

根据清华大学工程物理系唐传祥教授带领的一个研究小组与德国科研团队在《自然》杂志上发表的研究论文，名为“稳态微束”(SSMB)的新型粒子加速器光源可以用于大规模制造高质量的微芯片。

这份报告题为《稳态微聚束形成机制的实验演示》（Experimental demonstration of the mechanism of steady-state microbunching）。该研究的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这使得中国绕过对用于生产微芯片的光刻机的限制成为可能。

中国科研团队相信，一种称为稳态微聚束(SSMB)的新方法可以用于大规模生产高质量的微芯片，并减少中国对阿斯麦(ASML，先进半导体材料光刻)公司等行业巨头的光刻系统的依赖。

据悉，清华大学团队正在与雄安新区有关部门积极商讨，为这一尖端项目选址。

阿斯麦（ASML）等商业公司倾向于缩小芯片制造设备的规模以利出口，与之相反，中国项目的目标是通过建造一个巨大的工厂，将多台光刻机集中在一台加速器周围，实现本地化制造。 这项创新可以促进大批量、低成本的芯片制造，并有可能推动中国在先进芯片（即2纳米芯片）的工业生产中发挥领导作用。

光刻系统是人类创造的最复杂的机器之一。目前，超短波长的极紫外(EUV)广泛应用于7纳米及以下节点的芯片生产。 阿斯麦（ASML）是唯一拥有该技术的公司，因此在市场上占据主导地位。截至2022年底，阿斯麦（ASML）已经交付了180套EUV系统。根据彭博社4月份发布的一份报告，该公司计划今年再交付60套EUV系统。

虽然有许多研究人员在追逐这项技术，但中国科学家一直在探索一条不同的道路。中国团队研究背后的理论是一种新的发光机制，称为稳态微聚束（SSMB）。该理论利用带电粒子在加速过程中释放的能量作为光源。其结果是产生带宽窄、散射角小和连续的纯EUV光。带电粒子加速时会发光，利用这一现象的加速器是目前最亮的人造光源之一。

与目前的ASML EUV技术相比，SSMB是一种更理想的光源。它具有较高的平均功率和较高的芯片产量和较低的单位成本。SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这也是国际社会高度关注清华大学这项研究的原因。科学家指出，这项技术可以让中国超越美国的制裁。